国内光刻机是进口的还是自主研发的

国内光刻机以进口为主，尤其是高端光刻机几乎完全依赖进口。荷兰ASML公司生产的EUV光刻机是目前全球唯一能够生产7纳米以下芯片的设备，中国每年需要花费数十亿美元购买这类设备。中芯国际、华虹宏力等国内晶圆厂使用的光刻机90%以上来自ASML、尼康和东京电子等国外厂商。这些设备价格昂贵，一台EUV光刻机价值超过1.2亿美元，且维护成本极高。

中国光刻机自主研发取得一定进展，但与国际先进水平仍有较大差距。上海微电子的SSA800/10W光刻机能够生产90纳米芯片，已应用于部分显示面板和功率半导体制造。华卓精科的光刻机双工件台技术达到世界领先水平，已申请200多项专利。中科院光电技术研究所研发的"光刻机光源"项目实现了365nm波长光源的国产化，打破了国外垄断。这些成果显示中国在光刻机领域正逐步实现技术突破。